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真空加热台应用在材料科学领域，有哪些作用？
真空加热台是一种用于实验室研究和工业生产中的设备，用于在真空环境下加热样品。它通常由一个加热器、真空泵和控制系统组成，能够提供高温度下的低压环境，以便进行各种实验。主要特点是可以为实验提供高度的控制和调节。这使得实验者们可以更好地控制其研究对象，在气体环境下难以观察的反应和过程也可以通过加热台进行研究。另外，可以增强材料的物理性能，如硬度、电阻率等，因此在材料科学领域得到了广泛应用。主要部件包括加热器、真空泵和控制系统。加热器通常是一个具有良好导热性能的金属盒子，用于容纳样品...
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2025-04-20
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顶针加热台产品特点
产品特点：1.硬质阳极氧化铝耐腐蚀加热面板。2.7寸全彩触摸屏，高级PLC控制。实现在设定时间内自动升降，可以定时取片。3.可以任意设置顶针高度，实现无接触式烤胶。4.配有上盖内置微晶玻璃，可以保温防尘。规格型号：JW-220KJ技术参数：1.加热面板尺寸：220-220mm2.电源输入：220V1000W3.控温范围：室温--300℃；温度分辨率：0.1℃4.温度分辨率：0.1℃5.温度均匀性：±1%℃6.可储存6组程序配方，每组配方293个加热阶段。7.电动顶...
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2025-04-19
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加热匀胶机产品特点
产品特点：参数参数n结构紧凑，适合直接放于手套箱内操作；n7寸全彩触摸屏，高级PLC控制，设置一键启动按钮,操作方便；n可在加热的同时，进行单步和多步匀胶操作；n工业级马达，旋转平稳,运行稳定；n溶剂PC透明盖；规格型号：JW-A6技术参数：外形尺寸：270mm(W)360mm（D）260mm（H）n重量：12KGn兼容基片尺寸：可载基片最小（φ10mm最大φ35mm）n速度可调范围：100-5000RPM/SN减速度可调范围：100-3000rpm/Sn转速分辨率：1RPM...
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2025-04-19
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汶上县热火工艺品行业动态
晶圆烤胶机是一种专门用于半导体晶圆制作中的设备，其主要作用是使晶圆表面的胶水均匀地涂布在晶圆表面，从而确保晶圆表面的平整度和工艺精度。工作原理是使晶圆在高温下经过一定的处理步骤，例如预热、涂胶、烘干等，以达到理想的制造效果。晶圆烤胶机的外部结构一般由烤箱和控制系统两部分组成。烤箱通常采用不锈钢材料制成，具有良好的耐热性和稳定性，能够承受高温高压的环境条件。烤箱内部设计为环保、无尘、无菌等特性，以满足半导体晶圆生产的高要求。此外，还配备有精准的温度、时间和压力控制系统，以确保每...
居悦专业家政服务
2023-04-07
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流动气氛加热台技术参数
技术参数：1、面板材质：309S不锈钢（耐高温）2、电压：220V3、产品尺寸：230x190x185(mm)4、加热区域：160x160(mm)5、有效恒温区域：100X100(mm)6、控温范围：室温-600°C7、控温精度：士1%°C（无气流下）8、温度分辦率：0.1°C9、气氛：空气或惰性气体10、功率：600W.(10A)11、控温方式：293个程序度控温产品特点：1.本品可用于流动气氛高温加热，即在加热的过程中，为受热样品提供一个可调控的流动气体的保护氛围。2.基于...
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2023-03-23
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镀膜机技术参数
技术参数：1.真空室：∅220mm*H400mm；2.可镀最大工件尺寸：60*60mm,配抽拉式样品台，样品可旋转；另配备铜基板样品台；3.真空系统：机械泵+分子泵抽气系统；极限真空度：优于5*10-5Pa；4.抽气时间：大气压~8*10-4Pa小于30min；5.蒸发：电阻式蒸发电极（1对），可达到1800℃（只要熔点低于1600度的都可以蒸镀）功率：2KW；6.开启方式：正面开门结构，便于换丝及装料；7.水冷循环系统0.5P；注：可根据用户需要进行配置调整！设...
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2023-03-23
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